华为自研光刻机？看来是真的！根据日前国内专利交易检索平台SeenPat发布的资料显示，华为发明了一项新专利，专利名称是“反射镜、光刻装置及其控制方法”，可有效解决EUV光刻机“相干光固定的干涉图样而无法匀光”的难题。祝福华为。

发布时间: 2022-11-20 07:58:41

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华为自研光刻机？看来是真的！根据日前国内专利交易检索平台SeenPat发布的资料显示，华为发明了一项新专利，专利名称是“反射镜、光刻装置及其控制方法”，可有效解决EUV光刻机“相干光固定的干涉图样而无法匀光”的难题。祝福华为。
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【独家爆料】华为正在研发EUV光刻机
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3年前 • lidang 立党 • -- 点击 0 评论

震撼新闻来了：
1、深圳市濠森科技有限公司总经理发文，Mate60Pro芯片由华为自建厂生产，并非中芯国际。
2、DUV光刻机已经通过验收，即将交付使用
3、华为和上微共同研发的EUV光刻机年底之前验收、明年交付商用
4、一旦国产DUV,EUV商用化成功，将禁止同类国外光刻机产品
时政
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2年前 • mou • -- 点击 0 评论

ASML华裔工程师对中国芯片未来的看法
对于中国光刻机未来的发展，近日一位自称是ASML华裔工程师的网友在网上发表了自己的看法。以下为原文：
大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电？这个问题是说十年内，二十年内还是一百年内？
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4年前 • twitter机器人 • -- 点击 0 评论

据说中科院长春光机所攻克了光刻机难题，墙内的自媒体已经嗨了，信息的来源出自于吉林省科学奖的得奖公告。你怎么看？
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2年前 • 中日政经评论 • -- 点击 0 评论

有网友发现，目前，所有官方媒体关于“国产28nm光刻机”的消息全部被删除。
目前搜索7月31日新华网《国产光刻机如何突围》一文已经显示被删除
在抖音和微博上，之前关于“国产28nm光刻机”官媒新闻也全都不见了，只剩下一些自媒体发言。
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1977年5月14～19日，受四机部委托，上海大规模集成电路会战组在江苏省吴县召开光刻机座谈会，出席会议的有来自全国光刻机研制、使用的42家单位代表共67人。
时间已经过了46年，中国的光刻机依然被外国卡脖子。
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2年前 • Petrichor • -- 点击 0 评论

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2年前 • 朱韵和 • -- 点击 0 评论

最近，中国厂商采购光刻机等相关设备，结果中国产光刻机再次碰壁，一台都没中，ASML全获中企光刻机新订单。
消息称，上海积塔半导体公布了光刻机等设备采购招标信息，从公布的结果来看，中国半导体企业方华创、芯源微等皆中标。
唯独在光刻机…
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3年前 • twitter机器人 • -- 点击 0 评论

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